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发布时间:2022-02-06 14:46:00 作者:昆山市禄之发电子科技
目前,国外已经利用这一技术研发出多种不同材料组合的电磁屏蔽橡胶制品。
目前,国内主要以纯银粉作为导电填料。银具有优良的导电性能、耐氧化,用银粉或镀银填料作电磁屏蔽材料具有显着的屏蔽效果。但银价格昂贵,密度很大,不具有市场竞争力,只适合作特殊场合的屏蔽原料,且对低频的电磁屏蔽效果很差,难以满足宽频电磁屏蔽的需要。铜的导电性能良好,价格适中,但铜的密度较大,不易在聚合物基体中分散,因而影响复合材料的电磁屏蔽效果。而且,铜粉容易被氧化变质而降低导电性。镍粉不像铜粉那样容易氧化,但镍的电导率较低。为了提高填料的综合性能,常常铜镀银或镍镀银使用。PCB目前已经成为绝大多数电子产品达到电路互连的不可缺少的主要组成部件。石墨、碳黑具有成本低、分散性好等特点,但往往在很高的含量下才能具有一定的电磁屏蔽效果,这样会导致产品的力学性能显着下降,而且制品本身为黑色,影响产品的颜色多样性,应用范围受到限制,也常常以碳粉镀镍的形式加以使用。
钨铜合金主要应用
高压开关用电工合金
钨铜合金在高压开关128kV SF6断路器WCu/CuCr中,以及高压真空负荷开关(12kV 40.5KV 1000A),避雷器中得到广泛应用,高压真空开关体积小,易于维护,使用范围广,能在潮湿、以及腐蚀的环境中使用。主要性能要求是耐电弧烧蚀、抗熔焊、截止电流小、含气量少、热电子发射能力低等。除常规宏观性能要求外,还要求气孔率,微观组织性能,故要采取特殊工艺,需真空脱气、真空熔渗等复杂工艺。由于电解铜箔属柱状结晶组织结构,强度韧性等性能要逊于压延铜箔,所以电解铜箔多用于刚性覆铜板的生产,进而制成刚性印制板。
铜箔种类及铜箔的特点?电解铜箔的种类包括了:
低轮廓铜箔多层板的高密度布线技术的进步,使得传统型的电解铜箔不适应制造高精细化印制板图形电路的需要。因此,新一代铜箔——低轮廓(LOWProffle,LP)和超低轮廓(VLP)电解铜箔相继出现。与一般电解铜箔相比较,LP铜箔的结晶很细腻(2/zm),为等轴晶粒,不含柱状晶体,是成片层晶体,且棱线平坦、表面粗化度低。VLP铜箔表面粗化度更低,据测,平均粗化度为O.55弘m(一般铜箔为1.40弘m))。另外,还具有更好的尺寸稳定性,更高的硬度等特点。什么是铜排铜排是一种大电流导电产品,适用于高低压电器、开关触头、配电设备、母线槽等电器工程,也广泛用于金属冶炼、电化电镀、化工等超大电流电解冶炼工程。
涂胶铜箔adhesive coated copper foil(简称ACC)
又称为“上胶铜箔”。在铜箔粗化面上涂有树脂胶液的铜箔产品。一般树脂胶是缩醛改性酚醛树脂、环氧—丙烯酸酯树脂、丁qing改性酚醛树脂等类型。涂胶铜箔与涂树脂铜箔(RCC)在功能上有所区别,只作为铜箔与绝缘基材的粘接作用。用于纸基覆铜板、三层型挠性覆铜板制造。据悉,台湾的南亚、长春、金居,日本的三井、古河,韩国的日进、LSM,及中国的铜冠铜箔、灵宝华鑫、青海电子、江铜、联合铜箔等铜箔供应商均有锂电铜箔转产计划,上述供应商转锂电铜箔的月产能合计约8600吨/月。
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