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铜箔
未处理铜箔:IPC-4562规定,未处理铜箔包括两种,一种是铜箔表面不进行增强粘接处理,也不进行防锈处理的铜箔(代号N);一种是铜箔表面不进行增强粘接处理但进行防锈处理的铜箔(代号P)。通常,后一种铜箔应用比较广泛,纳米碳铝箔,如部分锂离子电池用铜箔、屏蔽铜箔等。
低轮廓铜箔(LP铜箔):主要用于多层线路板上,纳米碳铝箔供应,它要求铜箔表面粗糙度比普通铜箔小。IPC-4562中规定LP铜箔两面轮廓度不大于10.2微米。






铜排应用
铜排主要是用在一次线路上(大电流的相线、零线、地线都会用到铜排),在电柜上较大电流的一次元器件的连接都是用铜排,比如一排电柜在柜与柜之间连接的是主母排,主母排分到每面电柜的开关电气(隔离开关、断路器等)上的是分支母排。铜排有镀锡的也有裸铜排,在电柜中铜排连接处一般都要做镀锡处理和压花处理或者加导电膏。空余处就有加热缩套管防护,也有些是用绝缘油漆的。 用铜排主要考虑的是载流量,根据电流大小选用适合的铜排,连接处的螺丝一定要上紧,纳米碳铝箔供应商,否则电流大时会出现烧熔铜排的可能。

极薄铜箔 ultra thin copper foil
指厚度在9μm以下的印制电路板用铜箔。一般使用的铜箔,在多层板的外层为12μm以上,纳米碳铝箔批发,多层板的内层为18μm以上。9μm以下的铜箔使用在制造微细线路的印制电路板上。由于极薄铜箔在拿取上困难,因此一般有载体作为支撑。载体的种类有铜箔、铝箔、有机薄膜等。
箔种类 foil type
IPC—4562按照其制造工艺的不同,规定了金属箔的种类及代号.


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