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发布时间:2020-11-12 02:16:00 作者:昆山市禄之发电子科技
钨铜合金主要应用
钨铜合金综合了金属钨和铜的优点,其中钨熔点高(钨熔点为3410℃,铁的熔点1534℃),密度大(钨密度为19.34g/cm3,铁的密度为7.8g/cm3) ;在黄铜中加1%的锡能显著改善黄铜的抗海水和海洋大气腐蚀的能力,因此称为“黄铜”。铜导电导热性能***,钨铜合金(成分一般范围为WCu7~WCu50)微观组织均匀、耐高温、强度高、耐电弧烧蚀、密度大;导电、导热性能适中,广泛应用于耐高温材料、高压开关用电工合金、电加工电极、微电子材料,做为零部件和元器件广泛应用于航天、航空、电子、电力、冶金、机械、体育器材等行业。
电解铜箔与压延铜箔的异同点!压延铜箔和电解铜箔的特点:
1、电解铜箔的特点:
(1)电解铜箔导电性好一些
(2)电解铜箔分子比较疏松,易断
(3)电解铜箔是通过电镀工艺完成。
2、压延铜箔的特点:
(1)压延铜箔绕曲性要好,
(2)压延铜箔单价比电解铜箔要贵,压延铜箔分子紧密,柔性好,越薄柔性越好,一般有弯折要求的产品就用压延铜箔。
(3)压延铜箔是通过涂布方式生产。
生产的铜箔软连接使用是否安全
很多人对没有使用过的产品都会在安全性能方面不放心,并且对新型的产品安全性还会有狐疑的态度。所以东莞市金石电气科技有限公司在生产这种新型的铜箔软连接方面将技术手段使用到完善的同时,安全性也在逐渐的升高。因此,新一代铜箔——低轮廓(LOWProffle,LP)和超低轮廓(VLP)电解铜箔相继出现。产品在安装之后的使用寿命更长一定要比设备的寿命要长很多就可以了,软连接,这样能够避免产品老化发生安全事故,其次就是在出现发热或者其他问题的时候产品中的元素材料或直接阻断铜箔软连接中的电流通过,这样发生火灾或者其他安全事故的几率就会降低。
极薄铜箔 ultra thin copper foil
指厚度在9μm以下的印制电路板用铜箔。一般使用的铜箔,在多层板的外层为12μm以上,多层板的内层为18μm以上。9μm以下的铜箔使用在制造微细线路的印制电路板上。它应与活性具有良好的接触性,良好的耐蚀性,表面光滑、厚度均匀性。由于极薄铜箔在拿取上困难,因此一般有载体作为支撑。载体的种类有铜箔、铝箔、有机薄膜等。
箔种类 foil type
IPC—4562按照其制造工艺的不同,规定了金属箔的种类及代号.
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